به گزارش گروه دانشگاه خبرگزاری دانشجو، شرکت توسعه مواد پیشرفته (Advanced Material Development) از ثبت اختراع جدید این شرکت در آمریکا خبر داد. این پتنت مربوط به فناوری لایه‌برداری فاز مایع برای تولید نانومواد دوبعدی است.
شرکت توسعه مواد پیشرفته که متخصص در علم مواد پیشرفته است، اعلام کرد که این ثبت پتنت یک نقطه عطف مهم است که به دنبال توسعه طیف وسیعی از مواد برای استفاده در محصولات مختلف است.
جان لی، رئیس اجرایی شرکت توسعه مواد پیشرفته گفت: «ثبت این پتنت، اعتبارسنجی برای فعالیت‌های درون شرکت و شرکای تحقیقاتی خارجی ما است و ما را قادر می‌سازد تا به سرعت پیشرفت کنیم. این فرآیند کارآمد با انرژی بهینه، به ما امکان می‌دهد تا مواد متناسب با بازار را با قیمت مناسب و با مصرف انرژی کلی کم تولید کنیم.»
این حق ثبت اختراع تولید نانومواد ۲ D را از مواد توده‌ای با استفاده از یک فرآیند هموژنیک فشار بالا در حلال‌های آبی یا آلی پوشش می‌دهد.
کاربرد اصلی این فناوری در تولید مواد مبتنی بر گرافن، از جمله نانوپلاکت‌های گرافنی و گرافن چند لایه است. این فناوری، تولید طیف وسیعی از جوهر‌ها و روکش‌های هیبریدی بسیار رسانا از طریق فرمولاسیون دقیق با سایر مواد را ممکن می‌سازد.
جوهر‌های شرکت توسعه مواد پیشرفته با کم هزینه تولید شده و قابل بازیافت بوده و برای ساخت آنتن‌های RFID سبز، الکترونیک انعطاف‌پذیر چاپ شده و محافظت از EMI/RF قابل استفاده است. شرکت توسعه مواد پیشرفته در زمینه استفاده از فناوری جوهر رسانای مبتنی بر گرافن برای جایگزینی مواد آلومینیومی و پلاستیکی که در حال حاضر در صنعت رو به رشد RFID استفاده می‌شود، پیشرفت چشمگیری داشته است. جوهر‌های نانوذرات این شرکت، می‌توانند به‌طور ایمن به لایه‌های مختلف متصل شوند و به آن‌ها امکان کشش و خم شدن را دهند در حالی که مقاومت مکانیکی و الکتریکی را در محیط‌های سخت حفظ می‌کنند.
ارسال نظرات